滿足各種工藝要求
既能與現有設備兼容，又能滿足各種工藝要求的曝光設備。
NSR-2205iL1 i線步進式光刻機，可與各種半導體器件配合使用。該設備性價比優異，對晶圓材質的包容性強，能為各種半導體器件的高效率生産做出貢獻。它與尼康現有的i線步進式光刻系統高度兼容，是既有的理想替代産品。
滿足各種工藝要求
NSR-2205iL1
2023年8月31日公布新品信息
縮小投影倍率5倍i線步進式光刻機
介紹視頻
NSR-2205iL1的特點
應對多樣化需求實現高性價比
與尼康既有設備的高兼容性
為長期使用而設計的設備
應對多樣化需求，實現高性價比
應對功率半導體、通信用半導體，MEMS等
各種器件
- 兼容各種晶圓尺寸、厚度和翹曲度
- 支持晶圓尺寸切換，擴大客戶使用範圍
- 配備Wide DOF（擴展景深）和多點自動對焦（AF）
- 加強對化合物半導體工藝的應對
産品定位圖
與尼康既有設備的高兼容性
為長期使用而設計的設備
正在使用尼康的i線曝光設備的客戶，可以繼續使用所持有的資産（mask、recipes等）
我們繼續支持客戶的生産活動，緻力成為客戶的合作夥伴。
- 可以繼續使用所持有mask、recipes等
- 提升維護性
- 着眼長期利用，從零部件層面審查設計
主要性能
| 分辨率 | ≦ 350 nm※1 |
|---|---|
| NA | 0.45 |
| 曝光光源 | i-line (365 nm wavelength) |
| 縮小倍率 | 1:5 |
| 最大曝光範圍 | 22 mm × 22 mm |
| 重合精度 | SMO※2: ≦ 70 nm※1 |
| 主要特征 |
|
※1 option選項
※2 SMO (Single Machine Overlay)：同一型号機器之間的重合精度
展會信息
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