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FPD裝置産品目錄中心

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玻璃基闆

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X射線/CT系統

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玻璃基闆

對應第8代玻璃基闆FX-88SL/88SLD

對應第10.5代玻璃基闆 FX-103SH/103S

确認詳細内容

FX-88SL FX-88SLD
分辨率(L/S) 1.5 µm 2.5 µm
光源 UV-LED
波長 i線 i線和h線
投影倍率 1 : 1
重合精度 ≦ ±0.30 µm
尺寸 2,290 mm x 2,620 mm
節拍 39 s/plate
條件: 2,290 mm × 2,620 mm、4次掃描、i-line、30 mJ/cm2
39 s/plate
條件: 2,290 mm × 2,620 mm、4次掃描、i-line+h-line、30 mJ/cm2

對應第10.5代玻璃基闆 FX-103SH/103S

PDF: 1MB

對應第10.5代玻璃基闆的高精細大型面闆制造的FPD曝光設備

對應第10.5代玻璃基闆 FX-103SH/103S

确認詳細内容

FX-103SH FX-103S
分辨率 (可切換) 2.2 μm (g + h + i-line) 3.0 μm (g + h + i-line)
投影倍率 1 : 1
重合精度 ≦ ± 0.5 μm
尺寸 2,940 mm x 3,370 mm
節拍 60 s / plate
條件:  2,940 mm x 3,370 mm, 4 scans, g + h + i-line, 30 mJ / cm2

對應第8代玻璃基闆 FX-88S

PDF: 1MB

高重合精度和高精度,适用于第8代玻璃基闆的1.5 µm高分辨率FPD曝光設備

對應第8代玻璃基闆 FX-88S

确認詳細内容

分辨率 1.5 μm (i-line)
投影倍率 1 : 1
重合精度 ≦ ± 0.40 μm
尺寸 2,290 mm x 2,620 mm
節拍 47 s / plate
條件 : 2,200 mm x 2,500 mm, 4 scans, i-line, 30 mJ / cm2

對應第6代玻璃基闆 FX-6AS

PDF: 1MB

适用于第6代玻璃基闆
可實現高分辨率的最尖端高精細中小型面闆制造的FPD曝光設備

對應第6代玻璃基闆 FX-6AS

确認詳細内容

分辨率 1.0 μm (i-line)
投影倍率 1 : 1
重合精度 ≦ ± 0.23 μm
尺寸 1,500 mm x 1,850 mm
節拍 42 s / plate
條件 : 1,500 mm x 1,850 mm, 4 scans, i-line, 30 mJ / cm2

※使用相移掩模時

對應第6代玻璃基闆 FX-68SH/68S

PDF: 1MB

對應第6代玻璃基闆
高效和1.2 µm的高分辨率的
高精細中小型面闆制造的FPD曝光設備

對應第6代玻璃基闆 FX-68SH/68S

确認詳細内容

FX-68SH FX-68S
分辨率 1.2 μm (i-line) 1.5 μm (i-line)
投影倍率 1 : 1
重合精度 ≦ ± 0.27 μm
尺寸 1,500 mm x 1,850 mm
節拍 42 s / plate
條件 : 1,500 mm x 1,850 mm, 4 scans, i-line, 30 mJ / cm2

※使用相移掩模時

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X射線/CT系統

XT H 225和XT H 320

PDF: 10MB

多用途高分辨率微焦點CT檢測系統,用于小型塑料連接器及鋁鑄件等各種部件的研發和失效分析。

XT H 225和XT H 320

确認詳細内容

最大能量 225 kV / 320 kV
X射線源 最小焦點 1 μm / 3 μm
最大CT掃描尺寸 280 mm / 300 mm
探測器 最大像素矩陣 2880 x 2880 / 2048 x 2048
最大幀速率 30 fps
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影像測量儀

标準機型NEXIV VMZ-S

PDF: 6MB

高精度、高速度、方便易用的微米級坐标測量。

标準機型NEXIV VMZ-S

确認詳細内容

最大XYZ量程 650 x 550 x 200 mm
最小讀數 0.01 μm
最大允許誤差 EUX, MPE EUY, MPE 1.2 + 4 L / 1000 µm
最大允許誤差 EUXY, MPE 2.0 + 4 L / 1000 µm
最大允許誤差 EUZ, MPE 1.2 + 5 L / 1000 µm
最大載重量 50 kg(精度保證: 30 kg)
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光學手動測量

測量顯微鏡

PDF: 13MB

尼康衆多的模塊化單元,讓您在配置符合使用目的的系統時享有更大的靈活性。

測量顯微鏡
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工業顯微鏡

體式變焦顯微鏡

PDF: 17MB

包括正置和倒置兩種類型的多種工業用顯微鏡,既有反射裝用型,也有透反射兩用型,用于對工業樣品的高倍觀察。

體式變焦顯微鏡
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